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單通濾光片
點衍射激光干涉儀-大口徑(≥700mm)高精度(≤0.6nm RMS)無出口限制
雙/三光子專用濾光片
氦氖激光器(632.8nm 0.5-35mW)
SID4 標準型 波前傳感器/波前分析儀
皮米級精度激光干涉儀
聲光移頻器(AOFS)
高精度中空回射器/角反射器(各種精度、各種形狀、中空回射器陣列)
SID4-HR 高分辨率 波前傳感器/波前分析儀
相位偏折術/相位偏折測量系統
633nm碘穩頻可調諧激光器
400-1100nm激光波長計(600MHz)
SID4-UHR大口徑超高分辨率波前傳感器/波前分析儀
SID4-UV 紫外 波前傳感器/波前分析儀
壓電光纖相位調制器/光纖拉伸器
λ/1000超高精度激光干涉儀!
高的四波剪切干涉技術波前探測器。本文簡單介紹了波前傳感器的原理和典型應用,以及四波剪切干涉技術原理,比較了剪切干涉技術的波前分析儀與傳統哈特曼傳感器的特點。引 言:波前傳感器(Wave Front Sensor),按照其技術發展的歷史可以分為三個階段:第一階段,1900年德國科學家哈特曼采用挖孔的光闌技術制作完成了世界上第一個可以用于檢測波前的傳感器。第二階段,1971年R.K.Shack采用為透鏡陣列研發成功了精度更高的夏克-哈特曼波前分析儀。2000年法國Phasics研發團隊采用四波剪切干涉技術成功研發了基于四波橫向剪切干涉技術(4-Wave Lateral Shearing Inter ...
的長光程激光干涉測量儀LIGO、多光子共焦掃描顯微鏡,應用自適應光學技術可以校正儀器的靜態或激光泵浦放大引入的動態像差,從而提高穩定性、確保探測靈敏度。總之,由于光學儀器在軍事、工業、醫療、通訊、測試等領域的廣泛應用,而自適應光學技術在提高儀器的性能、抗干擾、穩定性等方面具有獨特的作用,伴隨系統集成和單元技術的不斷發展改進和成熟,成本的不斷下降,這門科學技術必將會在軍用、民用各個行業有更廣闊的發展空間,并創造出社會和經濟效益。 ...
考光所形成的干涉圖樣,物光場再現時,只需用原來的參考光照射全息元件,即可獲得重建的物光場。全息光鑷就是利用全息元件構建的具有特定功能的光場而形成的光鑷。所形成的光場性質的不同,全息光鑷會實現不同的功能,如單粒子的旋轉、多粒子的操控和分選等。最早的全息光鑷由芝加哥大學Eric R. Dufresne 等于1998 年實現,他們使用衍射光學元件(DOE)將準直的激光束分成多個獨立的光束,通過強會聚透鏡聚焦后形成多光鑷。構建全息光鑷的關鍵是根據實際需要選擇合適的全息元件。傳統生成全息元件的方法是利用相干光干涉制作的,其缺點是所拍攝的全息元件存在衍射效率低、制作費時以及通用性差等,因而它在全息光鑷中并 ...
ehnder干涉儀。當干涉儀的一支路固定位模式延遲,另一支路則用于改變脈沖延遲和幅值均衡。比特位模式延遲確保了當輸入信號為偽隨機位序列時輸出為偽隨機位序列。重組后,重復率為輸入時的兩倍。通過級聯四階,比特率可被放大16倍。結論:主動鎖模光纖激光器基于其高穩定性、窄脈寬、高重復頻率、超低時間抖動等特性可作為理想的采樣脈沖源被廣泛應用于通信光采樣領域中。關于我們:上海昊量光電設備有限公司作為光電領域知名的代理商,專注于光電領域的技術服務與產品經銷,致力于引進國外頂級光電器件制造商的技術與產品,為國內客戶提供優質的產品與服務。網址:http://www.arouy.cnTel: +86- ...
并通過紫外光干涉曝光方法加工制造產生,它是由3片超窄帶陷波濾光片(Notch Filter)和1~2片窄帶寬帶通濾光片(Bandpass Filter)組成。體布拉格窄帶陷波濾光片(BNF)和體布拉格帶通濾光片(BPF)都同屬于體布拉格光柵,它們都在低波數拉曼光譜的測量中發揮重要的作用。超低頻拉曼濾光片(ULF)具有其它標準拉曼濾光片遠遠無法比擬的特點,如:l 可實現低至5cm-1的超低頻拉曼測量(單級光譜儀);l 可同時測量斯托克斯和反-斯托克斯拉曼光譜帶;l 環境穩定性強,不受濕度影響;l 無偏振敏感特性;l 可承受400高溫;超低頻拉曼光譜測量主要利用布拉格帶通濾光片(BPF)和布拉格窄 ...
數天運行不加干涉的光學實驗以及非手動的光纖耦合激光的工業應用都是極其重要的。此外,在需要頻繁更換光學機構的應用中,FiberLock的掃描與搜索功能是非常有價值的。FiberLock可以不連接電腦,只依靠控制器上簡單有效的用戶面板操作。當然可視化操作和高級參數調整需要連接電腦。最后,通過對準一個光學元件優化一些高質量信號的需要會更加普遍,還有半導體激光器的生產中定位透鏡位置變化及光參量放大器中的光束對準。您可以通過我們的www.arouy.cn了解更多的產品信息,或直接來電咨詢021-34241962 ...
基于SLM的干涉子孔徑的替代策略[9],以確保SLM的有效區域上的像差可以被校正到λ/ 40或更好。如圖7所示,由于使用了制造工藝,MLO SLM的本地波前像差很低。殘留誤差被去除以確保神經元激發的衍射受限焦點。(a)原始的1920 x 1152像素SLM波前(λ/ 7 RMS)(b)應用了像差校正的波前(λ/ 20 RMS)(c)未應用校正的像差曲面圖。 (c)應用校正后的像差曲面圖。神經元激發效率光遺傳學的目標是了解神經回路的功能,以及發射模式和行為之間的關系。為了獲得成功,科學家需要能夠監測和操縱盡可能多的神經元,并以與自然發生的電路動力學相匹配的速率復制發射模式。有許多因素決定每秒可處 ...
基于SLM的干涉子孔徑的替代策略[9],以確保SLM的有效區域上的像差可以被校正到λ/ 40或更好。如圖7所示,由于使用了制造工藝,MLO SLM的本身的波前像差很低。(a)原始的1920 x 1152像素SLM波前(λ/ 7 RMS)(b)應用了像差校正的波前(λ/ 20 RMS)(c)未應用校正的像差曲面圖。(d)應用校正后的像差曲面圖。5. 計算全息算法優化美國Meadowlark Optics公司與美國霍華德休斯敦學院的研究人員合作開發了最新的計算全息優化算法,并且嵌入到SLM的控制軟件中,客戶可以正確、靈活的更方便的產生想要的光斑模式。同時用戶可根據自己的需求控制每個焦點的光強。 ...
、激光直寫、干涉光刻技術、衍射光學元件光刻技術等。 其中DMD無掩膜光刻技術是從傳統光學光刻技術衍生出的一種新技術,因為其曝光成像的方式與傳統投影光刻基本相似,區別在于使用數字DMD代替傳統的掩膜,其主要原理是通過計算機將所需的光刻圖案通過軟件輸入到DMD芯片中,并根據圖像中的黑白像素的分布來改變DMD芯片微鏡的轉角,并通過準直光源照射到DMD芯片上形成與所需圖形一致的光圖像投射到基片表面,并通過控制樣品臺的移動實現大面積的微結構制備。設備原理圖圖下圖所示。相對于傳統的光刻設備,DMD無掩膜光刻機無需掩膜,節約了生產成本和周期并可以根據自己的需求靈活設計掩膜。相對于激光直寫設備,DMD芯 ...
相近的光發生干涉時,它們的干涉光條紋變為低頻。我們利用4thDD鐵電液晶空間光調制器將調制好的兩束結構光照射到我們要觀察的核糖體區域,然后不斷從各個方向照射,將得到的熒光干涉圖案用sCMOS相機捕捉后經過傅里葉變化,卷積處理等重構后便能得到相當精確的核糖體圖案了。而它相較以上超分辨的優勢則是激發光強度弱,對熒光染料沒有什么要求,成像速度快,是用于活體細胞成像的不二之選。ForthDD LCOS鐵電空間光調制器在結構光照明顯微中的應用蘇州醫工所使用的照明顯微激光—結構光超分辨系統(線性/非線性結構光光路共用)光路原理如下圖所示,采用4路激光(405、488、561、647nm)(PS:如果您覺得 ...
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