砷化鎵準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí)映射砷化鎵(GaAs)作為一種you秀的III-V族半導(dǎo)體化合物,在光伏應(yīng)用中廣泛受到青睞,這歸功于電子遷移率、直接帶隙和精密調(diào)控的生長(zhǎng)機(jī)制。GaAs單結(jié)器件已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了效率,接近驚人的30%閾值。迅速成為薄膜太陽(yáng)能電池的優(yōu)質(zhì)材料。Photon etc.公司的基于體積布拉格光柵的高光譜成像平臺(tái)(IMA)可以對(duì)GaAs進(jìn)行表征,IPVF(以前稱為IRDEP-光伏能源研究與開(kāi)發(fā)研究所)的科學(xué)家利用IMA系統(tǒng)對(duì)GaAs太陽(yáng)能電池進(jìn)行表征。成功地在標(biāo)準(zhǔn)GaAs太陽(yáng)能電池中獲取了光譜和空間分辨光致發(fā)光(PL)圖像。他們利用532nm激光器通過(guò)顯微鏡物鏡實(shí)現(xiàn)了整個(gè)視場(chǎng)的均勻照明,從而使得能夠 ...
一化后的半波能級(jí)為:T = sin2 (xV/2Vx)圖1利用位于交叉偏振器之間的電光調(diào)制器進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)制圖2顯示了在沒(méi)有光偏置或電偏置的情況下,在交叉偏振器之間工作的所有光電調(diào)制器的一般傳輸特性。該特性在調(diào)制器性能方面的一個(gè)關(guān)鍵特性發(fā)生在zui小或零傳輸電平。空值是影響對(duì)比度(CR。也被稱為消光比)。一種類似于信噪比的量。CR=Imax/Imin其中Imax和Imin是zui大和zui小輸出強(qiáng)度。圖2 縱向e-o調(diào)制器和交叉偏振器的傳遞函數(shù)電光調(diào)制器也可以在平行偏振器之間工作,因此在沒(méi)有施加電壓的情況下可以實(shí)現(xiàn)zui大的傳輸。在這種情況下,強(qiáng)度遵循cos2函數(shù),零必須通過(guò)晶體上的半波電壓得到。 ...
單個(gè)鐵磁點(diǎn)的時(shí)間分辨磁光顯微鏡為了實(shí)現(xiàn)這種激光誘導(dǎo)的進(jìn)動(dòng),需要適當(dāng)?shù)耐獠看艌?chǎng)配置,要么直接施加,要么來(lái)自另一個(gè)磁層的交換偏置場(chǎng)。此外,特定的材料性質(zhì),如磁晶和形狀各向異性,強(qiáng)烈影響進(jìn)動(dòng)的動(dòng)力學(xué)。飛秒磁光實(shí)驗(yàn)除了可以獲得靈敏的時(shí)間分辨率外,還需要同時(shí)提高測(cè)量的空間分辨率,以便研究單個(gè)磁點(diǎn)的動(dòng)力學(xué)。精確的時(shí)間和空間分辨率的結(jié)合是一項(xiàng)重要的技術(shù)挑戰(zhàn)。它允許探索用于存儲(chǔ)和處理信息的磁性介質(zhì)中的磁性位元的基本特性和zui終性能。為了實(shí)現(xiàn)這些目標(biāo),人們開(kāi)發(fā)了一種新的實(shí)驗(yàn)裝置,該裝置基于飛秒時(shí)間分辨磁光克爾效應(yīng),具有衍射有限的空間分辨率。研究了具有垂直各向異性的CoPt3磁點(diǎn)的磁化動(dòng)力學(xué)。儀器使人們能夠在共 ...
高光譜成像在鈣鈦礦光譜和空間分析的應(yīng)用一、鈣鈦礦器件光致發(fā)光和電致發(fā)光成像瓦倫西亞大學(xué)的Henk Bolink博士與IPVF(前身為IRDEP-法國(guó)光伏能源研究與發(fā)展研究所)的研究人員合作,研究了具有不同電子傳輸層(PCBM和C60)的混合有機(jī)-無(wú)機(jī)甲基碘化鉛鈣鈦礦(CH3NH3PbI3)太陽(yáng)能電池的性能。用IMA獲得的發(fā)光高光譜數(shù)據(jù)有助于識(shí)別此類器件中的嚴(yán)重不均勻性(圖1)。這些空間不均勻性與載體提取問(wèn)題有關(guān),導(dǎo)致細(xì)胞的填充因子有限。圖1根據(jù)在1.15V和1.16V施加偏置下拍攝的EL高光譜圖像計(jì)算的當(dāng)前傳輸效率fT圖。對(duì)于使用PCBM(a,c,器件A)或C60(b,d,器件B)作為電子傳輸 ...
數(shù)指的是費(fèi)米能級(jí)和真空能級(jí)間的電勢(shì)差。基于此原理的光電器件如真空光電管。1.4真空光電管示意圖2、光電傳感器舉例(1)多像元傳感器圖2.1給出的是46像元的多像元傳感器,光敏面積為0.9mm×4.4 mm。對(duì)于近紅外探測(cè),能夠采用像元數(shù)為16(0.45mm ×1mm)]的InGaAs的陣列探測(cè)器。這些是高亮度場(chǎng)合用來(lái)測(cè)量的多像元傳感器實(shí)例,大部分是用于光譜儀中。對(duì)于像元數(shù)、像元尺寸、像元形狀的任意改動(dòng)從技術(shù)上是可能的。圖2.1 46像元的多像元傳感器示意圖多像元傳感器的優(yōu)點(diǎn)之一是有快的讀出速度,因?yàn)槊恳幌裨男盘?hào)是并行輸出。然而,有時(shí)并行輸出是個(gè)缺點(diǎn),原因是讀出電路的復(fù)雜程度與像元的多少成線性 ...
提出,從核心能級(jí)到價(jià)態(tài)的x射線激發(fā)中也會(huì)出現(xiàn)MO效應(yīng)。十年后,van der Laan等人(1986)和Schutz等人(1987)首次發(fā)現(xiàn)了x射線磁二色性效應(yīng)。由于歷史原因,磁圓二色性一詞被用來(lái)代替法拉第橢圓性。在zui初發(fā)現(xiàn)x射線MO效應(yīng)之后,又發(fā)現(xiàn)了許多其他的MO效應(yīng),例如共振x射線散射、x射線法拉第旋轉(zhuǎn)、x射線橫向MOKE和x射線縱向MOKE中的MO現(xiàn)象。一種新發(fā)現(xiàn)的現(xiàn)象是,在價(jià)帶能量體系中沒(méi)有對(duì)應(yīng)的MO效應(yīng),它可以用圓偏振或線偏振入射光來(lái)觀察。除了觀察到新的效應(yīng)外,求和規(guī)則的理論進(jìn)展也刺激了x射線磁光學(xué)的發(fā)展。特別是,x射線磁性圓二色性(XMCD)的理論推導(dǎo)和規(guī)則被證明在原子尺度上檢 ...
的質(zhì)子會(huì)從低能級(jí)(磁場(chǎng)方向指向上)躍遷至高能狀態(tài)(磁場(chǎng)方向指向下),縱向磁場(chǎng)強(qiáng)度隨之不斷減小。第二個(gè)影響是由于頻率一致,所有吸收能量的質(zhì)子會(huì)相互吸引靠攏,產(chǎn)生相同的相位,橫向磁場(chǎng)強(qiáng)度隨之不斷增大。四.“成像”那么,射頻脈沖關(guān)閉后發(fā)生了什么呢?當(dāng)射頻脈沖消失后,這些共振的H原子會(huì)慢慢恢復(fù)到原來(lái)的方向和幅度,這個(gè)過(guò)程稱之為“弛豫”。弛豫分為橫向弛豫和縱向弛豫。橫向弛豫也稱T2弛豫,即橫向磁化逐漸減少的過(guò)程,橫向磁化從zui大值減少了63%所花費(fèi)的時(shí)間為T2;縱向弛豫也稱為T1弛豫,即縱向磁化逐漸恢復(fù)的過(guò)程,縱向磁化恢復(fù)到平衡狀態(tài)強(qiáng)度的63%所需的時(shí)間為T1。弛豫時(shí)間與質(zhì)子密度有關(guān),不同組織的T1和 ...
相關(guān)的準(zhǔn)費(fèi)米能級(jí)分裂(Δμeff)(見(jiàn)圖1(c)和(d))。借助太陽(yáng)能電池和LED之間的互易關(guān)系,可以從EL圖像中推導(dǎo)出外部量子效率(EQE)。在樣品的整個(gè)表面上獲得微米級(jí)的基本特性有助于改進(jìn)制造工藝,從而達(dá)到更高的電池效率。圖2.(a)集成PL發(fā)射和(b)集成EL發(fā)射的高光譜圖像。使用廣義普朗克定律,可以推導(dǎo)出(c)和(d)Δμeff映射。改編自[3]。了解更多詳情,請(qǐng)?jiān)L問(wèn)上海昊量光電的官方網(wǎng)頁(yè):http://www.arouy.cn/details-1007.html相關(guān)文獻(xiàn):[1] Yoshida S. et al. 2019,Solar frontier achieves ...
出現(xiàn)淺的受主能級(jí),氧間位形成深能級(jí)缺陷,形成能分別為1.8eV、1.3eV。銅間位出現(xiàn)在深能級(jí),形成能為2.5eV左右。氧空位具有相對(duì)較低的形成能,但是它不穩(wěn)定。通常情況下容易得到Cu空位P型Cu2O半導(dǎo)體。圖1-8(a)為銅多氧少(b)為銅少氧多情況下Cu2O本征缺陷的形成能實(shí)驗(yàn)室前期通過(guò)電化學(xué)沉積控制生長(zhǎng)條件可得到n型的Cu2O半導(dǎo)體。如圖1-9所示,在特定的電壓、pH和溫度下才能實(shí)現(xiàn)Cu2O的電化學(xué)沉積。前期研究發(fā)現(xiàn)在不同電壓下制備的薄膜有Cu2O相、Cu-Cu2O相和Cu相等不同的相。沉積電壓對(duì)Cu2O薄膜的形貌、光學(xué)性質(zhì)影響較大。隨著沉積電壓的變化,Cu2O薄膜可從片狀層疊的薄膜狀態(tài) ...
虛線表示費(fèi)米能級(jí)。第1個(gè)主要帶結(jié)構(gòu)研究表明,單層GaS、GaSe、GaTe、InS、InSe和InTe的帶隙在2.0 - 3.3 eV之間(圖2)。在單分子層極限下,III-VI單硫族化合物具有準(zhǔn)間接帶隙,主要價(jià)帶呈火山口形狀。這種形狀導(dǎo)致價(jià)帶蕞大值與Γ點(diǎn)略有偏離。進(jìn)一步的復(fù)雜性可以通過(guò)考慮SOC效應(yīng)的擾動(dòng)來(lái)獲得,這在GaSe和InSe中已經(jīng)得到了廣泛的研究。原子荷電性導(dǎo)致自旋態(tài)分裂和能帶混合,而晶體對(duì)稱性產(chǎn)生的荷電性會(huì)導(dǎo)致額外的自旋分裂并影響自旋弛豫。當(dāng)考慮N(層數(shù))大于時(shí),這些系統(tǒng)的復(fù)雜性會(huì)加深。層序和層數(shù)可以改變帶隙,改變初級(jí)價(jià)帶形狀,誘導(dǎo)鐵電,調(diào)節(jié)自旋弛豫。其他效應(yīng),如鐵磁性,預(yù)測(cè)由于 ...
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