傳感器組成的干涉儀構(gòu)成雙光梳數(shù)字全息，可實(shí)現(xiàn)具有高時(shí)間相干性的高頻率復(fù)用全息。作者：Edoardo Vicentini ，Zhenhai Wang...Nathalie Picqué原文鏈接: https://www.nature.com/articles/s41566-021-00892-x4 快報(bào)標(biāo)題：通過在有機(jī)半導(dǎo)體界面形成三重態(tài)實(shí)現(xiàn)高效固態(tài)光子上轉(zhuǎn)換簡(jiǎn)介：證明了有機(jī)半導(dǎo)體異質(zhì)結(jié)界面對(duì)光的高效上轉(zhuǎn)換。這個(gè)過程是由界面處的電荷分離和重組介導(dǎo)的電荷轉(zhuǎn)移狀態(tài)實(shí)現(xiàn)的。作者：Seiichiro Izawa & Masahiro Hiramoto原文鏈接: https://www.natur ...

ehnder干涉儀(MZI)在硅芯片上展示了一個(gè)突破性的、完全集成的光學(xué)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)(optical neural network,ONN)。通過計(jì)算每個(gè)MZI的相應(yīng)相位，可以將任意矩陣有效地映射到該ONN硬件上。對(duì)于此類網(wǎng)絡(luò)，所需的非線性可以通過利用強(qiáng)度調(diào)制器、相機(jī)的飽和效應(yīng)、光電二極管的二次非線性、半導(dǎo)體放大器的飽和、可飽和吸收器等多種方法來實(shí)現(xiàn)。從那時(shí)起，人們提出了許多方案來進(jìn)一步優(yōu)化這些陣列的實(shí)現(xiàn)及其片上訓(xùn)練過程。雖然 ONN 在學(xué)術(shù)和工業(yè)界中都受到了相當(dāng)大的關(guān)注，但現(xiàn)在研究人員越來越意識(shí)到，改變芯片上的相位是不可取的，而且會(huì)顯著掩蓋光子加速器的潛在優(yōu)勢(shì)。在這些結(jié)構(gòu)中，相位變化通常由熱光移 ...

馬赫-曾德爾干涉儀(MZI)組成的可編程納米光子處理器(programmable nanophotonic processor, PNP)實(shí)現(xiàn)。每一個(gè)MZI包含在兩個(gè)50%倏逝波定向耦合器之間的熱-光移相器(θ)，隨后是另一個(gè)移相器(φ)，見圖2c、d。如圖2a、b，激光耦合進(jìn)OIU單元完成矩陣變換，隨后被光電二極管陣列探測(cè)，然后被計(jì)算機(jī)讀取并模擬非線性激活函數(shù)，激光重新注入OIU執(zhí)行下一層(兩個(gè)OIU完成一次奇異值分解)。(2) 片上訓(xùn)練。通常，神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的參數(shù)使用梯度下降的方法訓(xùn)練得到，在計(jì)算機(jī)上，常見的方式是使用反向傳播方法計(jì)算梯度，這個(gè)過程非常耗時(shí)。在ONN上使用前向傳播和有限差方法(f ...

馬赫-曾德爾干涉儀(Mach-Zehnder interferometer, MZI)可以實(shí)現(xiàn)給定維度的任意空間線性光學(xué)函數(shù)。當(dāng)前不足：如空間模式轉(zhuǎn)換器、線性光學(xué)量子計(jì)算門以及用于通信和其它應(yīng)用的任意線性光學(xué)處理器這樣的光學(xué)函數(shù)，可以在硅光子技術(shù)中使用MZI網(wǎng)格(mesh)來實(shí)現(xiàn)，但性能受到不能實(shí)現(xiàn)理想的50：50分割的分束器的限制。文章創(chuàng)新點(diǎn)：基于此，美國(guó)斯坦福大學(xué)的David A. B. Miller提出了一種新的架構(gòu)和一種新穎的自我調(diào)整方法，可以自動(dòng)補(bǔ)償從85∶15到15∶85之間由于不完美制造產(chǎn)生的非理想分光比，并能夠大規(guī)模制造用于各種復(fù)雜和精確線性光學(xué)函數(shù)。原理解析：(1) 使用雙M ...

位門通過級(jí)聯(lián)干涉儀實(shí)現(xiàn)，該干涉儀由半波片和光束偏移器(beam displacer, BD)組成。在三層結(jié)構(gòu)中，特征狀態(tài)是通過一個(gè)受控分束器(controlled beam splitter, CBS)引入的，該受控分束器由5個(gè)半波片和3個(gè)光束位移器組成(第1個(gè)BD根據(jù)光子的偏振態(tài)，將其分為不同的空間模式，隨后的HWPs和BDs在光子的偏振態(tài)和空間模式上實(shí)現(xiàn)受控的雙量子位門)，特征狀態(tài)(酉算子Ui的參數(shù)，它在訓(xùn)練過程中是固定的)信息編碼在半波片的設(shè)置角度中。實(shí)驗(yàn)結(jié)果：MNIST數(shù)據(jù)集之外的圖像分類。(a)子分類器輸出狀態(tài)的測(cè)量概率。(b)分類結(jié)果。參考文獻(xiàn)：Kunkun Wang, Lei X ...

urnois干涉儀(GTI)反射鏡（Layertec）之間反射4次實(shí)現(xiàn)，每次反射約1300fs。早期的KGW/KYW激光設(shè)計(jì)，使用棱鏡對(duì)在腔內(nèi)做色散補(bǔ)償，通過改變棱鏡的插入距離，可以改變輸出激光的中心波長(zhǎng)或帶寬。在過去的幾年里，GTI成為色散補(bǔ)償?shù)闹髁鬟x擇，因?yàn)樗o湊且容易裝配。盡管已經(jīng)有許多理論依據(jù)（通過負(fù)群延遲色散抵消增益介質(zhì)里的自相位調(diào)制，產(chǎn)生一個(gè)可支持穩(wěn)定模式鎖定的色散范圍）指導(dǎo)如何構(gòu)建一個(gè)穩(wěn)定的鎖模腔，在構(gòu)建用于特定實(shí)際應(yīng)用的振蕩器的時(shí)候，還是需要用到反復(fù)試錯(cuò)法，特別是使用離散值GTI反射鏡的時(shí)候。我們需要逐漸增加負(fù)色散，直到獲得穩(wěn)定的鎖模激光輸出。作者發(fā)現(xiàn)，每個(gè)GTI反射兩次（一個(gè) ...

析儀可以表征干涉儀等儀器的復(fù)頻譜響應(yīng)，快速繪制出系統(tǒng)的傳遞函數(shù)。同時(shí)，內(nèi)置的 FIR濾波器可以產(chǎn)生較為精確的信號(hào)延遲。Moku:Lab功能與參數(shù)主要參數(shù)?雙通道200 MHz模擬輸入?雙通道300 MHz模擬輸出?12-bit 500 MSa/s 低噪聲ADC?Xilinx Zynq 7000 Series FPGA?<20 nV/√Hz 輸入噪聲(高于 1 MHz時(shí))主要功能?集成了12個(gè)不同的測(cè)試測(cè)量?jī)x器?專門為Pound–Drever–Hall和其他常見的激光鎖頻方式所開發(fā)的儀器功能?雙通道基于鎖相環(huán)的相位/頻率探測(cè)裝置?Python, MATLAB, 和LabVIEW的API支持 ...

采用邁克爾孫干涉儀的結(jié)構(gòu)，在參考鏡前設(shè)置補(bǔ)償玻璃板（同LCOS芯片前的玻璃板），消除對(duì)光路的影響，從而使參考光和反射光達(dá)成白光干涉條件。分析干涉圖可得到LCOS芯片的相位輪廓，進(jìn)而分析相位調(diào)制的特性曲線。上圖為白光干涉法的裝置示意圖。白光由確定中心波長(zhǎng)的鹵鎢燈發(fā)射，經(jīng)毛玻璃散射。然后由線偏振片獲得與LCOS液晶指向矢平行的偏振方向。然后分束鏡將透射光分為兩路，一路光反射到參考鏡經(jīng)過補(bǔ)償玻璃板，再原路返回。另一路光透射后在LCOS芯片的液晶內(nèi)經(jīng)過雙折射產(chǎn)生相位延遲，再原路返回。兩路光最后再在CCD前疊加，產(chǎn)生白光短路干涉，由CCD記錄干涉圖樣。LCOS裝載在壓電位移臺(tái)上，以便調(diào)整光程差，進(jìn)而獲得 ...

Kaleo套件-模塊化計(jì)量解決方案隨著光學(xué)系統(tǒng)復(fù)雜性的增加，計(jì)量團(tuán)隊(duì)通常需要特定的測(cè)量參數(shù)（測(cè)試波長(zhǎng)、精度、分辨率、相關(guān)結(jié)果……）。 PHASICS?Kaleo Kit解決了這?挑戰(zhàn)，它是?于光學(xué)鑒定的模塊化系統(tǒng)。Kaleo 套件是各種兼容模塊的組合，可讓您創(chuàng)建經(jīng)濟(jì)?效、緊湊且易于使?的系統(tǒng)，它可以適應(yīng)?泛的測(cè)量配置，并確保樣品在開發(fā)的所有階段滿足質(zhì)量要求。?次采集即可獲取樣品的所有參數(shù)：TWE、RWE、波前像差、MTF、PSF 等等。一、Kaleo Kit的選型只需要3個(gè)步驟1.選擇您的波前傳感器2.選擇您的R-cube，波長(zhǎng)（nm）36540553062574078081085094010 ...

常低于用傳統(tǒng)干涉儀測(cè)量的水平。作為MEMS鏡面的基材，硅具有較優(yōu)的潔凈度、平整度。在光束轉(zhuǎn)向應(yīng)用的Z后制造步驟中，硅鏡面必須涂覆以獲得所需波長(zhǎng)的高反射率。在標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)過程中，硅鏡上會(huì)涂上一層薄薄的鋁，所有庫(kù)存的MEMS鏡面都用的鋁涂層。一些研發(fā)生產(chǎn)過程中的設(shè)計(jì)被涂上了黃金。一般來說，可以使用其他涂層材料，但有必要找到薄的、低應(yīng)力的涂層，而不會(huì)顯著降低鏡子的平整度特性。這是一個(gè)非常具有挑戰(zhàn)性的要求，因?yàn)镸EMS反射鏡的厚度非常小，因此在每個(gè)新情況下都需要大量的研發(fā)工作。在使用鋁涂層的標(biāo)準(zhǔn)工藝中，在任何類型和尺寸的鏡子中都保持>5m的曲率半徑。圖2MEMS鏡面涂層：標(biāo)準(zhǔn)鋁涂層(左)，金涂層（右 ...