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3D超分辨率單分子定位顯微鏡模塊（無需掃描）
采用光學(xué)照射掩模版的方式將圖案轉(zhuǎn)移到掩模版上；而在無掩模光刻中，對目標(biāo)圖案的轉(zhuǎn)印不需要掩模版，而是通過電子束或光學(xué)的方式直接在基片上制作出所需要的圖案，這種方式避免了傳統(tǒng)方式制作掩模版效率低、分辨率低、成本高的缺點。2、何為DMD無掩模光刻？DMD無掩模光刻是光學(xué)無掩模光刻技術(shù)的一種，該技術(shù)使用數(shù)字DMD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的掩模，借助于DMD對常規(guī)掩膜予以取代而展開光刻成像，借助DMD對光源展開反射式調(diào)制，把涉及的虛擬數(shù)字掩膜移至硅晶圓基片，進(jìn)而進(jìn)行曝光。DMD無掩模光刻系統(tǒng)本質(zhì)上是一種高精度加工平臺，如下圖所示，主要包括投影光源部分、DMD光調(diào)制部分、投影物鏡和光可調(diào)平臺部分。圖2：法國Microli ...
殊設(shè)計的相位掩模版，從工程化點擴(kuò)散函數(shù) (E-PSF)出發(fā)，使用螺旋相位掩模板來控制景深、發(fā)射波長和精度，結(jié)合3DTRAX軟件對3D圖像進(jìn)行重建和分析，可在不需要掃描的條件下即時捕獲 3D 信息，得到無與倫比的深度和精度3D圖像，橫向精度可達(dá)20nm, 軸向精度可達(dá)25nm，成像深度可達(dá)20um。當(dāng)與其他工具和技術(shù)，包括STORM、PALM、SOFI、光片顯微、寬場、寬場顯微、TIRF、FRET等一起使用時，可釋放巨大的潛力，適用于活細(xì)胞、固定細(xì)胞和全細(xì)胞成像、單分子、粒子跟蹤和粒子計數(shù)等應(yīng)用。圖1：SPINDLE2雙通道顯微鏡模塊，用于同時多色、多深度3D成像SPINDLE2可以被很容易地安 ...
擇合適的相位掩模版以實現(xiàn)基于深度范圍、發(fā)射波長和信噪比等參數(shù)對點擴(kuò)散函數(shù)（PSF）的優(yōu)化，更重要的是，SPINDLE可在無需掃描的情況下在單張圖像中將傳統(tǒng)成像系統(tǒng)的景深擴(kuò)大10倍。在本文中，我們展示了如何將SPINDLE成像系統(tǒng)與傳統(tǒng)熒光顯微鏡結(jié)合使用以在所有三個維度（x、y、z）上實現(xiàn)亞衍射極限成像。SPINDLE可與任何高質(zhì)量的科學(xué)相機(jī)兼容，無論是EMCCD還是sCMOS都可以提供定位顯微鏡所需的高信噪比圖像。使用SPINDLE和DH-PSF相位掩模版對細(xì)胞微管進(jìn)行三維超分辨成像在本文中，我們證明了使用SPINDLE單通道模塊可以實現(xiàn)高精度、大深度的超分辨率重建。如圖1所示，使用Doubl ...
的金屬表面（掩模版直徑為20um）。在20微米的尺度上存在明顯的粗糙度，但在<5微米的尺度上可以看到平滑區(qū)域粗糙表面在微觀水平上呈現(xiàn)出峰狀和光滑區(qū)域（圖2）。很明顯，在20um尺度上存在明顯的粗糙度，但在<5um尺度上存在光滑區(qū)域。因此，應(yīng)該可以選擇足夠小的測量點來減少粗糙度影響。事實上，圖3、4的結(jié)果表明，使用2um測量點表面粗糙度效應(yīng)實際上可以消除，并且可以可靠地測量涂層厚度。粗糙度拓?fù)溥€會導(dǎo)致微觀層面上涂層厚度的變化——這是測量退化的潛在來源（我們將在下面回顧）。但較小的光斑尺寸也有助于減少這種情況。盡可能小的測量點尺寸并不總是能給出結(jié)果。光斑尺寸需要根據(jù)特定應(yīng)用進(jìn)行優(yōu)化。圖 ...
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