結(jié)構(gòu)：SLM是基于LCOS（Liquid Crystal On Silicon液晶覆硅）工藝開發(fā)出來的，由蓋板玻璃，前透明電極，液晶層，反射鏡像素，集成電路背板（CMOS工藝）等結(jié)構(gòu)組成。SLM有著廣泛的應(yīng)用，可以用于光束轉(zhuǎn)向、分束、調(diào)焦，光鑷，脈沖整形，衍射光學(xué)等領(lǐng)域。SLM的剖面圖和相位調(diào)制原理圖如圖一所示：圖1 SLM截面圖及相位調(diào)制原理蓋板玻璃起到保護(hù)和封裝液晶的作用，針對實(shí)際使用中光源的不同波長范圍，蓋板玻璃表面鍍有相應(yīng)波長范圍的寬譜AR膜，可以大大減少反射光，提高系統(tǒng)效率。前透明電極層位于液晶層的頂部，加載有恒定電壓。液晶層是SLM中的工作物質(zhì)，液晶分子的排列狀況可以在電場作用下 ...

一、簡介激光引起的損傷的原因主要有兩類：熱吸收-產(chǎn)生于SLM中一種或多種材料對激光能量的吸收。這種損傷形式一般適用于連續(xù)波(CW)激光器、長脈沖(單脈沖長度≥1 ns)激光器和高重復(fù)率的激光器，這些激光器的平均功率可以非常高。介電擊穿-當(dāng)高峰值功率密度的激光器以超過熱吸收速率的速度將電子從材料中剝離而導(dǎo)致燒蝕損傷時發(fā)生。這種損傷形式一般適用于具有高峰值功率的短脈沖激光器為了說明這些概念，圖1-圖5舉例說明了隨時間變化的激光功率密度曲線(紅色單線)和材料溫度(藍(lán)色雙線)。每條曲線顯示了高脈沖功率密度如何能立即導(dǎo)致介質(zhì)擊穿，以及在整個激光脈沖周期中材料溫度如何升高，從而接近熱損傷點(diǎn)。不同的材料有不 ...

，速度不同電光調(diào)制器一般入射光入射方向都是垂直于晶體表面，晶體都是做相位延遲使用的，而且要求出射光的o光和e光方向是相同的。那么光軸的方向只有幾種情況，光軸與入射光反向相同，但是這種情況下，兩束光折射率相同，對光束沒有調(diào)制效果。光軸垂直于入射光，如上圖所示，o光和e光折射率不同，相位延遲也不同。e光振動方向是光軸與入射光方向，類似于電光調(diào)制器的快軸方向，能夠被電場所調(diào)制。普通的波片光軸應(yīng)該也是這種情況。我猜測電光調(diào)制器的光軸可能是第二種情況。電光調(diào)制器折射率n=n_0+a×E+b×E^2+...n_0是在沒有外加電場下的晶體折射率，a和b是常數(shù)，第一個是與電場的線性光系，稱為Pockels效應(yīng) ...

k的液晶空間光調(diào)制器為例，主要由兩個接口，一個是虛擬串口，負(fù)責(zé)SLM于電腦之間的通信，例如查詢溫度，設(shè)置RGB通道，上傳LUT文件等等。另一個是HDMI接口，負(fù)責(zé)圖像傳輸，SLM本身相當(dāng)于第二個顯示器，使用方法完全一致。虛擬串口默認(rèn)波特率是115200。不同型號的串口命令不一致，現(xiàn)在新出的型號為1920*1200， 因此以這一為例。串口內(nèi)容含有一套幫助命令，輸入字符“h”可以查看幫助菜單，注意所有命令末尾都不需要回車符號。當(dāng)輸入命令h后得到如下現(xiàn)已結(jié)果Bandicoot Menu Ver 1.0 : Enter Command after Prompt >help : type hreg ...

及可靠的空間光調(diào)制。圖1：DMD單個工作單元圖示1、何為無掩模光刻？無掩膜光刻即不采用光刻掩模板的光刻技術(shù)。在傳統(tǒng)光刻過程中，需要采用光學(xué)照射掩模版的方式將圖案轉(zhuǎn)移到掩模版上；而在無掩模光刻中，對目標(biāo)圖案的轉(zhuǎn)印不需要掩模版，而是通過電子束或光學(xué)的方式直接在基片上制作出所需要的圖案，這種方式避免了傳統(tǒng)方式制作掩模版效率低、分辨率低、成本高的缺點(diǎn)。2、何為DMD無掩模光刻？DMD無掩模光刻是光學(xué)無掩模光刻技術(shù)的一種，該技術(shù)使用數(shù)字DMD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的掩模，借助于DMD對常規(guī)掩膜予以取代而展開光刻成像，借助DMD對光源展開反射式調(diào)制，把涉及的虛擬數(shù)字掩膜移至硅晶圓基片，進(jìn)而進(jìn)行曝光。DMD無掩模光刻系統(tǒng) ...

斯束通常由聲光調(diào)制器（AOM）或電光調(diào)制器（EOM）進(jìn)行調(diào)制。調(diào)制頻率通常在MHz范圍內(nèi)。這有助于減少由光熱膨脹產(chǎn)生的背景并提高圖像采集速度。在本應(yīng)用筆記中，泵浦光束是由AOM在2 MHz左右調(diào)制的。為了使泵浦和斯托克斯光束在時間上保持一致，一個電動的延遲用于調(diào)整任一或兩個光路驅(qū)動器的光路長度。對于具有光譜聚焦的飛秒SRS，延遲級還用于微調(diào)泵浦和斯托克斯束之間的能量差。像大多數(shù)其他非線性光學(xué)顯微鏡一樣，光束掃描方法通常用于CARS和SRS圖像采集。在物鏡之前放置一對振鏡或振鏡掃描頭。在本例中，使用了一對振鏡（GVS 102，Thorlabs）。物鏡/聚光鏡，探測器和數(shù)據(jù)采集在掃描頭后，將光束導(dǎo) ...

這里主要是測試一下CPU和GPU計(jì)算的速度。CPU：I7-10700，8核16線程，主頻2.9GHz，睿頻4.8GHzGPU：RTX-2060，6G顯存，可用顯存為5G計(jì)算平臺為Matlab 2019b，采用同一個GSW算法，進(jìn)行不同次數(shù)的循環(huán)。因?yàn)閿?shù)據(jù)前后是相關(guān)的，所以沒有主動采取并行運(yùn)算。但是從任務(wù)管理器中觀察，Matlab有優(yōu)化過程，計(jì)算中還是使用到多核。若只采用CPU計(jì)算，CPU利用率從0%變化到74%，GPU利用率幾乎不變，大部分時間還是維持在0%。若采用GPU計(jì)算，CPU利用率0%變化到11%，GPU變化率為偶爾跳到2%。然后修改圖像尺寸，看看數(shù)據(jù)大小對于時間的影響，循環(huán)次數(shù)保持在 ...

四、基于空間光調(diào)制器的光鑷技術(shù)隨著全息光學(xué)和計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展，光鑷技術(shù)也取得了重大的進(jìn)步，其中具有代表性的，即基于液晶空間光調(diào)制器的全息光鑷技術(shù)。通過編程控制加載于液晶空間光調(diào)制器上的全息光柵，可實(shí)現(xiàn)目標(biāo)光場的調(diào)制與微粒的操縱。全息光鑷不僅可以按照任意特定的圖案同時捕獲多個微粒，而且可以獨(dú)立操縱其中的每一個微粒。您可以通過我們的官方網(wǎng)站了解更多的產(chǎn)品信息，或直接來電咨詢4006-888-532。 ...

范圍內(nèi)使用電光調(diào)制器(EOM)調(diào)制頻率，然后通過物鏡聚焦到樣品。另外一些TDTR設(shè)置使用聲光調(diào)制器(AOM)，但由于AOM的上升時間長得多，調(diào)制頻率通常有限。EOM調(diào)制頻率作為鎖定檢測的參考。在通過相同的物鏡聚焦到樣品之前，探針光束通過機(jī)械延遲線產(chǎn)生時間延遲。探測束通常在延遲階段之前擴(kuò)束，以減小長距離傳輸導(dǎo)致的發(fā)散。圖1. 典型TDTR系統(tǒng)光學(xué)裝置圖時域熱反射系統(tǒng) 探測方式：反射的探測光束由快速響應(yīng)光電二極管探測器收集，它將光信號轉(zhuǎn)換成電信號。然后使用鎖相放大器從強(qiáng)背景噪聲中提取信號。在早期TDTR系統(tǒng)中，探測器和鎖相放大器之間插入一個電感，電阻為50Ω。原因是泵浦光束通常由方波函數(shù)調(diào)制(例如 ...

通常會使用電光調(diào)制器（EOM）或聲光調(diào)制器（AOM）進(jìn)行調(diào)制。調(diào)制頻率通常在兆赫茲的頻段。這樣可以有效的降低光熱效應(yīng)，提高圖像采集的速度。在這個應(yīng)用指南中，我們將使用AOM對泵浦光在2兆赫的頻率進(jìn)行調(diào)制。在光路中，一個電動延時臺被用來準(zhǔn)確的調(diào)節(jié)泵浦和斯托克斯光之間的延時。對于光譜對焦的SRS來說，這個延時臺同時被用來微調(diào)兩束光之間的能量差。像大多數(shù)非線性光學(xué)成像系統(tǒng)一樣，SRS和CARS的成像大多使用的是光束掃描的方法。一堆振鏡被放置在物鏡前對光線進(jìn)行掃描。在這個展示中，我們使用了一對Thorlabs的GVS 102振鏡。物鏡，聚光鏡，探測器，數(shù)據(jù)采集當(dāng)激光經(jīng)過振鏡掃描后，通過物鏡在樣品上形成 ...